Toshiba accelera lo sviluppo della litografia a nanostampa

Toshiba ha annunciato in data odierna la stipula dell’accordo definitivo con SK hynix per lo sviluppo congiunto della litografia a nanostampa (Nano Imprint Lithography, NIL). I tecnici di entrambe le società inizieranno lo sviluppo delle tecnologie di base per il processo in questione nel Complesso Yokohama di Toshiba a Yokohama, in Giappone, a partire dal mese di aprile di quest’anno con l’obiettivo di giungere all’applicazione pratica nel 2017. L’annuncio di oggi si basa su un memorandum d’intesa sottoscritto dalle società nel dicembre dello scorso anno.

Il testo originale del presente annuncio, redatto nella lingua di partenza, è la versione ufficiale che fa fede. Le traduzioni sono offerte unicamente per comodità del lettore e devono rinviare al testo in lingua originale, che è l’unico giuridicamente valido.

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